පෑන් මත පදනම් වූ අමු වයර් සෑදීමට පෙර ඔක්සිකරණය, අඩු උෂ්ණත්ව කාබනීකරණය සහ ඉහළ උෂ්ණත්ව කාබනීකරණය අවශ්‍ය වේ.කාබන් තන්තු, පසුව ග්‍රැෆයිට් තන්තු සෑදීම සඳහා ග්‍රැෆයිට් කර ඇත. උෂ්ණත්වය 200℃ සිට 2000-3000℃ දක්වා ළඟා වන අතර, එය විවිධ ප්‍රතික්‍රියා සිදු කරන අතර විවිධ ව්‍යුහයන් සාදයි, ඒවා අනෙක් අතට විවිධ ගුණ ඇත.
1. පිරොලිසිස් අවධිය:අඩු උෂ්ණත්ව කොටසෙහි පූර්ව ඔක්සිකරණය, ඉහළ උෂ්ණත්ව කොටසෙහි අඩු උෂ්ණත්ව කාබනීකරණය
ඔක්සිකරණයට පෙර ඇරිලේෂන් සිදු වේ, ආසන්න වශයෙන් මිනිත්තු 100 ක දිගකින්, 200-300 ℃ උෂ්ණත්වයකින්, අරමුණ වන්නේ PAN රේඛීය සාර්ව අණුක දාමය ප්ලාස්ටික් නොවන තාප-ප්‍රතිරෝධී ට්‍රැපෙසොයිඩල් ව්‍යුහයකට තාප ප්ලාස්ටික් කිරීමයි, චක්‍රීයකරණයේ සහ අන්තර් අණුක හරස් සම්බන්ධකයේ සාර්ව අණුක දාමය සඳහා ප්‍රධාන ප්‍රතික්‍රියාව වන අතර, පයිරොලිසිස් ප්‍රතික්‍රියාව සහ බොහෝ කුඩා අණු මුදා හැරීම සමඟ. ඇරිලේෂන් දර්ශකය සාමාන්‍යයෙන් 40-60% කි.
අඩු උෂ්ණත්ව කාබනීකරණ උෂ්ණත්වයසාමාන්‍යයෙන් 300-800 ℃ වේ, ප්‍රධාන වශයෙන් තාප ඉරිතැලීම් ප්‍රතික්‍රියාව, බොහෝ දුරට ඉහළ උෂ්ණත්ව විදුලි උදුන වයර් උණුසුම භාවිතා කරමින්, වේදිකාව පිටාර වායුව සහ තාර විශාල ප්‍රමාණයක් නිපදවයි.
ලක්ෂණ: පූර්ව ඔක්සිකරණය වූ තන්තු වල වර්ණය අඳුරු වනු ඇත, සාමාන්‍යයෙන් කළු, නමුත් තවමත් තන්තු වල රූප විද්‍යාව රඳවා ගනී, අභ්‍යන්තර ව්‍යුහය යම් ප්‍රමාණයක රසායනික වෙනස්කම් වලට භාජනය වී ඇත, ඔක්සිජන් අඩංගු ක්‍රියාකාරී කණ්ඩායම් ගණනාවක් සහ හරස් සම්බන්ධක ව්‍යුහයක් සෑදීම, පසුව කාබනීකරණය සඳහා අඩිතාලම දමයි.
2. (අධි-උෂ්ණත්ව) කාබනීකරණ අවධිය, යනු ඉහළ උෂ්ණත්ව වියෝජනයකදී නිෂ්ක්‍රීය වායුගෝලයක පූර්ව ඔක්සිකරණය වන අතර, කාබන් විෂම පරමාණු (ඔක්සිජන්, හයිඩ්‍රජන්, නයිට්‍රජන් ආදිය) වලට අමතරව ඒවා ඉවත් කිරීම, එමඟින් ක්‍රමයෙන් කාබනීකරණය, අස්ඵටික කාබන් හෝ ක්ෂුද්‍ර ස්ඵටික කාබන් ව්‍යුහය සෑදීම සිදු වේ. මෙම ක්‍රියාවලිය කාබන් ඇටසැකිල්ල සෑදීමේ ප්‍රධාන පියවරකි. උෂ්ණත්වය සාමාන්‍යයෙන් 1000-1800 ℃ අතර වන අතර, ප්‍රධාන වශයෙන් තාප ඝනීභවන ප්‍රතික්‍රියාව, බොහෝ ග්‍රැෆයිට් හීටර් උණුසුම සඳහා භාවිතා වේ.
ලක්ෂණ: කාබනීකෘත ද්‍රව්‍යයේ ප්‍රධාන අංගය කාබන් වන අතර, ව්‍යුහය බොහෝ දුරට අස්ඵටික කාබන් හෝ අවුල් සහගත මිනිරන් ව්‍යුහයකි, එහි විද්‍යුත් සන්නායකතාවය, පූර්ව ඔක්සිකරණ නිෂ්පාදනයට සාපේක්ෂව යාන්ත්‍රික ගුණාංග සැලකිය යුතු ලෙස වැඩි වේ.
3. ග්‍රැෆිටීකරණයඅස්ඵටික කාබන් හෝ ක්ෂුද්‍ර ස්ඵටික කාබන් ව්‍යුහය වඩාත් ක්‍රමවත් ග්‍රැෆයිට් ස්ඵටික ව්‍යුහයකට ප්‍රවර්ධනය කිරීම සඳහා ඉහළ උෂ්ණත්වවලදී කාබනීකරණ නිෂ්පාදන තවදුරටත් තාප පිරියම් කිරීමකි. ඉහළ උෂ්ණත්වයේ ක්‍රියාකාරිත්වය හරහා, කාබන් පරමාණු ඉහළ මට්ටමේ දිශානතියක් සහිත ෂඩාස්‍රාකාර දැලිස් ස්ථර ව්‍යුහයක් සෑදීමට නැවත සකස් කර ඇති අතර එමඟින් ද්‍රව්‍යයේ විද්‍යුත් හා තාප සන්නායකතාවය සහ යාන්ත්‍රික ශක්තිය සැලකිය යුතු ලෙස වැඩි දියුණු කරයි.
ලක්ෂණ: ග්‍රැෆිටීකරණය කරන ලද නිෂ්පාදනයට ඉතා ස්ඵටිකරූපී මිනිරන් ව්‍යුහයක් ඇති අතර, එය විශිෂ්ට විද්‍යුත් සහ තාප සන්නායකතාවක් මෙන්ම ඉහළ නිශ්චිත ශක්තියක් සහ නිශ්චිත මාපාංකයක් සපයයි. උදාහරණයක් ලෙස, ඉහළ-මාපාංකයකාබන් තන්තුඉහළ මට්ටමේ ග්‍රැෆිටීකරණයක් හරහා ලබා ගනී.
පූර්ව ඔක්සිකරණය, කාබනීකරණය සහ ග්‍රැෆිටීකරණය සඳහා නිශ්චිත පියවර සහ උපකරණ අවශ්‍යතා:
පූර්ව ඔක්සිකරණය: 200-300°C පාලිත උෂ්ණත්වයකදී වාතයේ සිදු කෙරේ. තන්තු හැකිලීම අඩු කිරීම සඳහා ආතතිය යෙදිය යුතුය.
කාබනීකරණය: නිෂ්ක්‍රීය වායුගෝලයක සිදු කරනු ලබන්නේ උෂ්ණත්වය 1000-2000°C දක්වා ක්‍රමයෙන් වැඩි වීමෙනි.
ග්‍රැෆිටීකරණය: ඉහළ උෂ්ණත්වවලදී (2000-3000°C), සාමාන්‍යයෙන් රික්තයක් තුළ හෝ නිෂ්ක්‍රීය වායුගෝලයක් තුළ සිදු කෙරේ.
පළ කිරීමේ කාලය: 2025 මැයි-22
